通過SiC系列的文《SiC材料到底“cool”在哪里?》,我們了解到了SiC材料本身的卓越性能。那么,使用SiC材料做成的器件又會有什么過人之處呢?接下來就讓我們一探究竟吧。
目前IGBT和MOSFET都是廣泛使用的功率器件,特別是在高壓電力電子領(lǐng)域IGBT 應(yīng)用更為普遍。那么,IGBT 和MOSFET 究竟有哪些區(qū)別呢?其實它們的結(jié)構(gòu)非常相似,正面采用多晶硅與漂移區(qū)形成金屬-氧化物-半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),作為門極;漂移區(qū)普遍采用N型摻雜的半導(dǎo)體來承受阻斷電壓;門極施加正壓(高于器件閾值電壓)時,器件導(dǎo)通,通態(tài)電流在漂移區(qū)縱向流動。區(qū)別主要在于IGBT 在漂移區(qū)背面有P+注入作為集電極,而MOSFET 直接在N漂移區(qū)背面淀積金屬作為漏極。IGBT 背面的P+決定了它是雙極型器件,在器件導(dǎo)通時,發(fā)射極注入電子,而集電極注入空穴,兩種載流子均參與導(dǎo)電。在器件關(guān)斷時,多余的空穴只能在體內(nèi)進(jìn)行復(fù)合,從而造成拖尾電流,增加了關(guān)斷損耗,限制了開關(guān)頻率的提高。而且在高溫下,拖尾電流更加明顯,造成更大的關(guān)斷損耗。目前IGBT 能實現(xiàn)系統(tǒng)的開關(guān)頻率均在100kHz 以下。而MOSFET 只依賴電子進(jìn)行導(dǎo)電,關(guān)斷時電子可以迅速被抽走,沒有拖尾電流,因而關(guān)斷損耗更小,且基本不隨溫度變化。
圖1:IGBT 與MOSFET 剖面結(jié)構(gòu)圖
下面我們通過實際測試數(shù)據(jù)來直觀感受一下SiC 的優(yōu)勢。
1)開關(guān)損耗
圖2是1200V HighSpeed3 IGBT(IGW40N120H3) 與CoolSiC? MOSFET (IMW120R045M1) 在同一平臺下進(jìn)行開關(guān)損耗的對比測試結(jié)果。母線電壓800V, 驅(qū)動電阻RG=2.2Ω,驅(qū)動電壓為15V/-5V。使用1200V/20A G5 肖特基二極管 IDH20G120C5作為續(xù)流二極管。在開通階段,40A 的電流情況下,CoolSiC? MOSFET 開通損耗比IGBT 低約50%,且?guī)缀醪浑S結(jié)溫變化。這一優(yōu)勢在關(guān)斷階段會更加明顯,在25℃結(jié)溫下,CoolSiC? MOSFET 關(guān)斷損耗大約是IGBT 的20%,在175℃的結(jié)溫下,CoolSiC? MOSFET 關(guān)斷損耗僅有IGBT 的10%(關(guān)斷40A電流)。且開關(guān)損耗溫度系數(shù)很小。
圖2:IGBT 與 CoolSiC? 開關(guān)損耗對比
2)導(dǎo)通損耗
圖3是1200V HighSpeed3 IGBT (IGW40N120H3) 與CoolSiC? MOSFET (IMW120R045M1) 的輸出特性對比。常溫下,兩個器件在40A 電流下的導(dǎo)通壓降相同。當(dāng)小于40A 時,CoolSiC? MOSFET 顯示出近乎電阻性的特性,而IGBT 則在輸出特性上有一個拐點,一般在1V~2V, 拐點之后電流隨電壓線性增長。當(dāng)負(fù)載電流為15A 時,在常溫下,CoolSiC? 的正向壓降只有IGBT 的一半,在175℃結(jié)溫下,CoolSiC? MOSFET 的正向壓降約是IGBT 的80%。在實際器件設(shè)計中,CoolSiC? MOSFET 比IGBT 具有更低的導(dǎo)通損耗 。
圖3:CoolSiC? 和IGBT 導(dǎo)通損耗對比
3)體二極管續(xù)流特性
CoolSiC? MOSFET 的本征二極管有著和SiC肖特基二極管類似的快恢復(fù)特性。25℃時,它的Qrr和相同電流等級的G5 SiC 二極管近乎相等。然而,反向恢復(fù)時間及反向恢復(fù)電荷都會隨結(jié)溫的增加而增加。從圖4(a)中我們可以看出,當(dāng)結(jié)溫為175℃時,CoolSiC? MOSFET 的Qrr略高于G5 肖特基二極管。圖4(b)比較了650V 41mΩ Si MOSFET 本征二極管和CoolSiC? MOSFET 本征二極管的性能。在常溫及高溫下,1200V CoolSiC? MOSFET 體二極管僅有Si MOSFET 體二極管Qrr的10%。
圖4 CoolSiC? MOSFET 體二極管動態(tài)特性
我們已經(jīng)了解到,SiC 材料雖然在擊穿場強(qiáng)、熱導(dǎo)率、飽和電子速率等方面相比于Si材料有著絕對的優(yōu)勢,但是它在形成MOS(金屬-氧化物-半導(dǎo)體)結(jié)構(gòu)的時候,SiC-SiO2 界面電荷密度要遠(yuǎn)大于Si-SiO2,這樣造成的后果就是SiC表面電子遷移率要遠(yuǎn)低于體遷移率,從而使溝道電阻遠(yuǎn)大于體電阻,成為器件通態(tài)比電阻大小的主要成分。然而,表面電子遷移率在不同的晶面上有所區(qū)別。目前常見的SiC MOSFET 都是平面柵結(jié)構(gòu),Si-面上形成導(dǎo)電溝道,缺陷較多,電子遷移率低。英飛凌CoolSiC? MOSFET 采用Trench 溝槽柵結(jié)構(gòu),導(dǎo)電溝道從水平的晶面轉(zhuǎn)移到了豎直的晶面,大大提高了表面電子遷移率,使器件的驅(qū)動更加容易,壽命更長。
SiC MOSFET 在阻斷狀態(tài)下承受很高的電場強(qiáng)度,對于Trench 器件來說,電場會在溝槽的轉(zhuǎn)角處集中,這里是MOSFET 耐壓設(shè)計的一個薄弱點。英飛凌采用了嶄新的非對稱溝槽結(jié)構(gòu),如下圖所示。在這個結(jié)構(gòu)中,溝槽左側(cè)有N+源極及P基區(qū),可以形成正常的MOS導(dǎo)電溝道;溝槽的另外一側(cè)大部分都被高摻雜的深P阱包圍,在阻斷狀態(tài)下,這個P阱可以減弱施加在溝槽柵氧上的電場強(qiáng)度;在反向續(xù)流狀態(tài)時,可以充當(dāng)快恢復(fù)二極管使用,性能優(yōu)于常規(guī)MOSFET體二極管。
圖5:CoolSiC? MOSFET 剖面示意圖
相比于其它SiC MOSFET, CoolSiC? MOSFET 有以下獨特的優(yōu)勢:
a)為了與方便替換現(xiàn)在的Si IGBT,CoolSiC? MOSFET 推薦驅(qū)動電壓為15V,與現(xiàn)在Si 基IGBT 驅(qū)動需求兼容。CoolSiC? MOSFET 典型閾值電壓4.5V, 高于市面常見的2~3V的閾值電壓。比較高的閾值電壓可以避免門極電壓波動引起的誤觸發(fā)。
b)CoolSiC? MOSFET 有優(yōu)化的米勒電容Cgd 與柵源電容Cgs 比值,在抑制米勒寄生導(dǎo)通的同時,兼顧高開關(guān)頻率。
c)大面積的深P 阱可以用作快恢復(fù)二極管,具有極低的Qrr 與良好的魯棒性。
d)CoolSiC? MOSFET提供芯片,單管,模塊多種產(chǎn)品。單管有TO-247 3pin 和 TO-247 4pin,開爾文接法可以防止米勒寄生導(dǎo)通,并減少開關(guān)損耗。模塊有EASY1B,EASY 2B, 62mm 等等, 可以覆蓋多種功率等級應(yīng)用。模塊采用低寄生電感設(shè)計,為并聯(lián)設(shè)計優(yōu)化,使PCB 布線更容易。
圖6:CoolSiC? 先期量產(chǎn)產(chǎn)品目錄
綜上所述,CoolSiC? MOSFET是一場值得信賴的技術(shù)革命,憑借它的獨特結(jié)構(gòu)和精心設(shè)計,它將帶給用戶一流的系統(tǒng)效率,更高的功率密度,更低的系統(tǒng)成本。(英飛凌igbt廠家 )